产品描述
上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100, 属于中型规格栅网离子源. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.
离子束流: >400 mA; 离子动能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 灯丝.
采用双阴极灯丝和自对准栅网.加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
|
portant;">
离子源型号 |
portant;">
离子源 KDC 100 |
|
portant;">
Discharge |
portant;">
DC 热离子 |
|
portant;">
离子束流 |
portant;">
>400 mA |
|
portant;">
离子动能 |
portant;">
100-1200 V |
|
portant;">
栅极直径 |
portant;">
12 cm Φ |
|
portant;">
离子束 |
portant;">
聚焦, 平行, 散射 |
|
portant;">
流量 |
portant;">
2-20 sccm |
|
portant;">
通气 |
portant;">
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
portant;">
典型压力 |
portant;">
< 0.5m Torr |
|
portant;">
长度 |
portant;">
23.5 cm |
|
portant;">
直径 |
portant;">
19.4 cm |
|
portant;">
中和器 |
portant;">
灯丝 |
* 可选: 可调角度的支架
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
伯东KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
1.溅镀和蒸发镀膜 PC
2.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
3.表面改性, 激活 SM
4.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
5.离子蚀刻 IBE
